Ученые в Нижнем Новгороде запатентовали очистку нанопорошка для микросхем

Разработку подготовила лаборатория инженерной химии научно-исследовательского института химии вуза. Технология дает возможность задавать размер и форму частиц, добиваться их однородности и стабильности, сводя содержание примесей к низкому уровню. Эти параметры определяют, подойдет ли материал для изготовления микросхем.

Руководитель исследования, кандидат химических наук, научный сотрудник лаборатории инженерной химии Ксения Отвагина пояснила, что новый способ предназначен для очистки аморфного диоксида кремния. Его будут использовать при химико-механической полировке полупроводниковых пластин и в других процессах, где нужны абразивные наноматериалы высокой чистоты.

В университете подготовили технологическую линию и регламент производства. Полученную устойчивую суспензию уже передали индустриальному партнеру для апробации.

Отвагина отметила, что размер, форма и однородность частиц влияют на качество обработки пластин. От него, в свою очередь, зависят надежность электронных устройств и их производительность. Создание российских материалов с управляемыми свойствами она назвала важным шагом к развитию микроэлектроники и уменьшению зависимости от иностранных поставщиков. Потребность в отечественных аналогах, не уступающих зарубежным по характеристикам, стала критической в условиях ограниченных поставок.

Ректор Университета Лобачевского Олег Трофимов связал разработку с задачей создания отечественной компонентной базы. По его словам, университет стремится выстроить полный цикл — от фундаментальной науки до серийного внедрения. Ректор также отметил, что процесс удалось масштабировать, а переход к испытаниям с промышленным партнером подтвердил правильность выбранного направления.

Источник: ТАСС